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                                                              光刻膠概念漲停潮:關注光刻膠概念兩大核心標的

                                                              本文由:刘冷霜 编辑 2019年07月17日 21:17 科技前沿3528 ℃

                                                              【作家苏叔阳逝世】

                                                              韓國《朝鮮日報》在本月2日的報道稱□☆∟,若因日本政府加強對韓出口管制導致半導體等製造過程中所需的3種材料無法進口∵♂∟,半導體巨頭三星電子和SK海力士等確保的庫存約1個月⊙┊▽,即使加上3個月左右的成品庫存也只能「維持三四個月」﹡∵。MBC電視台指出♀,最壞的情況是工廠生產線可能停工∴。

                                                              韓國半導體與顯示技術協會負責人ParkJea-gun表示↑◇,三星電子和SK海力士正在尋求從中國購買更多材料⊿♀〇。他補充說♂∵?,還包括會去日本之外的國家尋找庫存多餘的企業⌒〇⊿,向它們採購π。

                                                              光刻膠是國際上技術門檻最高的微電子化學品之一?〇↑,按應用領域可分為PCB(線路板)用、平板顯示(LCD、LED)用和半導體用三類♀┊♂,目前國內市場上絕大多數廠商生產的產品為前兩者□♀。

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                                                              光刻膠是半導體集成電路製造的核心材料﹡☆。光刻膠的質量和性能是影響集成電路性能、成品率及可靠性的關鍵因素⌒。光刻工藝的成本約為整個芯片製造工藝的35%⌒,並且耗費時間約佔整個芯片工藝的40%-60%〇△♀。因此光刻膠是半導體集成電路製造的核心材料∴。

                                                              今年 6月28日☆∟,晶瑞股份(300655)發佈公告稱◇〇,公司全資子公司蘇州瑞紅承擔是國家科技重大專項(02專項)「極大規模集成電路製造裝備及成套工藝」之《i 線光刻膠產品開發及產業化》項目□,近日順利通過了專家組驗收〇⌒☆。

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                                                              其中◇∟﹡,半導體用光刻膠領域代表性企業有晶瑞股份(300655)的子公司蘇州瑞紅和高盟新材(300200)參与投資的北京科華?∴☆,兩者分別承擔了02專項i線(365nm)光刻膠和KrF線(248nm)光刻膠產業化課題⊿△∟。目前?◇∴,晶瑞股份(300655)的子公司蘇州瑞紅實現g/i線光刻膠量產□∟▽,可以實現0.35μm的分辨率⊿,248nm光刻膠中試示範線也已建成;高盟新材(300200)參股的北京科華KrF/ArF光刻膠已實現批量供貨♀。

                                                              ③完成了248nm深紫外光刻膠成膜樹脂和配膠的中試技術研究▽?⊙,研發的248nm深紫外光刻膠分辨率達到了0.25~0.13µm的技術要求△∴□,建成了中試示範線♂☆。

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                                                              去年11月初π﹡,晶瑞股份曾在互動平台上表示﹡π,公司i線光刻膠產品正在與華虹宏力、武漢新芯、中芯國際等晶圓廠接洽、測試、送樣過程中〇┊,尚未形成批量銷售▽。

                                                              來源:金融投資網近日⊿♀,日本經濟產業省宣布從7月4日起┊♂,日本半導體材料、OLED材料等將限制對韓國出口⊿♂,開始對韓國進行經濟制裁?┊☆。限制材料有3種:「氟聚酰亞胺」、「光刻膠」和「高純度氟化氫」∵,日本方面要求出口商每次出貨時都要獲得許可∵〇,這需要大約90天的時間∵π。受此消息影響?,光刻膠概念繼氟化工概念之後成為當前A股市場最大的風口♀∵∵!從周三的盤面來看↑,晶瑞股份(300655)直接「一」字漲停□□,南大光電(300346)、光華科技(002741)、飛凱材料(300398)、西隴科學(002584)、彩虹股份(600707)、強力新材(300429)、容大感光(300576)、廣信材料(300537)等多隻光刻膠概念股封于漲停〇∴!此次日韓互撕?∟┊,將為中國的光刻膠產業帶來難得的發展機遇π∴∴。因此♀⊙▽,作為國內光刻膠領域兩大核心龍頭企業對應的上市公司⌒☆□,晶瑞股份(300655)和高盟新材(300200)必將成為光刻膠概念的兩大龍頭品種♂▽。尤其是高盟新材(300200)♂,其剛剛受讓國內光刻膠龍頭企業北京科華微電子的股權◇π,補漲空間值得期待⊙□π!

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                                                              高盟新材(300200)2019年1月4日晚公告□♂,公司擬以自有資金不超1998萬元⊙⊙,受讓南大光電(300346)持有的北京科華3.67%股權♂﹡。交易完成後☆□?,公司將持有北京科華3.67%股權┊。據悉♂∵△,北京科華是集光刻膠研發、生產、檢測、銷售於一體的中外合資企業﹡↑,也是國內唯一一家擁有高檔光刻膠自主研發及生產實力的國家級高新技術企業┊↑。2017年獲得SEMI全球光刻膠企業前十;2018年獲批「光刻膠國家地方聯和工程研究中心」;並建有北京市發改委命名的「光刻膠北京市工程實驗室」⊙。值得一提的是▽,科華微電子是目前國內唯一擁有荷蘭ASML曝光機的光刻膠公司﹡π,其最小分辨率可達0.11um△⊿。通過與客戶晶圓廠同樣的檢測設備配置□,實現了上下游產品檢測的無縫對接⊿◇。

                                                              國產光刻膠發展起步較晚⊙,與國外先進光刻膠技術相比國內產品落後4代♀♂,目前主要集中在PCB光刻膠、TN/STN-LCD 光刻膠等中低端產品⊿♂,雖然PCB領域已初步實現進口替代﹡,但LCD 和半導體用光刻膠等高端產品仍需大量進口∟π⌒,正處於由中低端向中高端過渡階段?⊙⊙。

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                                                              今年3月☆♂♀,晶瑞股份(300655)表示其i線光刻膠已通過中芯國際上線測試∴△,業界認為下半年開始有望陸續接獲相關產品訂單☆⊿◇。

                                                              光刻膠概念兩大核心標的:晶瑞股份(300655)和高盟新材(300200)蘇州瑞紅和北京科華絕對是國內光刻膠領域技術最領先的兩大企業∟♀π,這兩大核心企業對應的上市公司分別是晶瑞股份(300655)和高盟新材(300200)♀◇。

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                                                              高盟新材(300200)對於此次收購北京科華微電子錶示⊿∵,根據公司未來發展戰略♂↑♂,結合國內外新材料行業發展趨勢⊿↑,公司積極探尋在電子及半導體應用領域先進高分子材料方面的發展機會↑△♀。公司希望通過參股電子化學品領域公司♂,尋求雙方在技術、業務和市場方面相互協同♀△♀,對公司進一步拓展電子化學品領域業務具有積極作用□,符合公司的戰略布局⊙↑△。本次投資北京科華♂,可為公司帶來一定的投資收益▽⊙↑,有利於進一步拓展公司在電子化學品領域市場▽。

                                                              我們認為⊿∵,光刻膠是半導體集成電路製造的核心材料光刻膠的質量和性能是影響集成電路性能、成品率及可靠性的關鍵因素↑⌒。光刻工藝的成本約為整個芯片製造工藝的35%♀▽,並且耗費時間約佔整個芯片工藝的40%-60%∟⊿◇。此次日韓互撕◇⌒,將為中國的光刻膠產業帶來難得的發展機遇┊⊿。因此♀,作為國內光刻膠領域兩大核心龍頭企業對應的上市公司?,晶瑞股份(300655)和高盟新材(300200)必將成為光刻膠概念的兩大龍頭品種﹡♂♀。

                                                              科華微電子一直以來堅持自主創新♂▽,將以客戶需求為導向的研發創新作為公司的核心競爭力⌒,建成了一支國際化研發團隊☆,在光刻膠成膜樹脂結構、感光材料結構、光刻膠配方及生產工藝控制技術等方面取得了很大的成就﹡?,並在高端晶圓加工應用、先進封裝應用、MINI LED、MICRO LED、分立器件應用等領域積累了豐富的系列產品和深厚的技術儲備﹡π,是中芯國際、華潤上華、杭州士蘭微、吉林華微電子、三安光電、華燦光電、德豪光電等行業頂尖客戶的穩定合作夥伴⊙。

                                                              日韓互撕:國產光刻膠迎來重大機遇近日┊◇?,日本政府突然宣布∴∴,從7月4日起?□⌒,日本半導體材料、OLED材料等將限制對韓國出口┊∵◇,開始對韓國進行經濟制裁♀。限制材料有3種:「氟聚酰亞胺」、「光刻膠」和「高純度氟化氫」﹡,日本方面要求出口商每次出貨時都要獲得許可〇⊙∟,這需要大約90天的時間◇〇?。

                                                              ②研發的厚膜膠完成了產品定型⊿♀,一次性塗膜厚度達到2~20μm∵∴▽,技術指標符合硅片級封裝及相關產業的工藝要求↑⊿⊙,建成了20噸/年規模的厚膜膠生產線∴◇,並已向客戶供貨☆π。

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                                                              在大規模集成電路的製造過程中⌒∟,光刻和刻蝕技術是精細線路圖形加工中最重要的工藝π,占芯片製造時間的40%~50%∵,光刻膠是光刻工藝得以實現選擇性刻蝕的關鍵材料⊙⌒。

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                                                              到2018年⊙♂,北京科華目前已經完成了248nm KrF光刻膠生產線的建設⊙↑┊,且其KrF光刻膠是國內唯一一家通過中芯國際認證的國內產品∟,實現了量產出貨π,這個進度比KrF光刻膠還只是中試生產的晶瑞股份(300655)旗下子公司蘇州瑞紅要快π∵π。

                                                              不過π,隨着國家層面對半導體在資金、政策上的大力支持⊙♂,國內光刻膠企業正在努力追趕♂⌒♂,企業數量從2012年的5家增長到2017年15家∴﹡,少數企業在中高端技術領域已取得一定突破∵♀◇。

                                                              北京科華微電子陳昕總帶領的國際化團隊從事光刻膠行業近三十年∵,在光刻膠領域具有豐富的實踐經驗和理論經驗☆♀,完成了紫外正性光刻膠、集成電路用高分辨G線正膠、I線正膠、KrF-248nm深紫外光刻膠的產線建設和量產出貨♂∵,是集先進光刻膠產品研、產、銷為一體的擁有自主知識產權的行業標杆企業π,特別是KrF-248nm光刻膠代表了國內目前最先進的光刻膠研發與生產水平∵。

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                                                              通過該項目研發任務的圓滿完成┊,蘇州瑞紅在i線正膠和厚膜膠方面將全面實現規模化生產□,併為248nm深紫外光刻膠的產業化奠定堅實的技術基礎▽〇,預計將對蘇州瑞紅的未來發展產生積極影響☆。

                                                              據韓國貿易協會發行的相關報告顯示⊙?☆,韓國半導體及顯示器行業在氟聚酰亞胺、光刻膠☆☆π,以及氟化氫這三類材料對日本的依賴度分別是91.9%、43.9%及93.7%♀▽。

                                                              半導體用光刻膠技術壁壘較高、市場高度集中﹡〇,日美企業基本壟斷了g/i線光刻膠、KrF/ArF光刻膠市場▽♀,生產商主要有JSR、信越化學工業、TOK、陶氏化學等⊿∟。

                                                              晶瑞股份(300655)表示∴□,通過該項目的實施↑,形成了我國先進的光刻膠生產和研發示範基地:①研發的i線正膠完成了產品定型▽〇,各項技術指標和工藝性能滿足0.35~0.25μm集成電路技術和生產工藝要求♂〇,建成了100噸/年規模的i線正膠產品生產線∴♂,並已向客戶供貨☆⊙∟。

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                                                              目前半導體市場上主要使用的光刻膠包括g線、i線、KrF、ArF四類光刻膠⌒,其g線和i線光刻膠是市場上使用量最大的光刻膠♂π△。

                                                              為適應集成電路線寬不斷縮小的要求⌒,光刻膠的波長由紫外寬譜向g線(436nm)→i線(365nm)→KrF(248nm)→ArF(193nm)→F2(157nm)的方向轉移〇,並通過分辨率增強技術不斷提升光刻膠的分辨率水平▽∵。

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                                                              科華微電子始終將光刻膠國產化事業作為企業的願景和使命⌒∟?,公司成立至今承接了國家02科技重大專項、國家「163」重大科技項目、國防科工委「十一五」重點科技項目、國家發改委產業化示範工程項目以及北京市科委重點計劃項目、北京市工業促進局工業發展資金項目等國家級、北京市級重大課題♂▽⊿,在各級政府的支持下科華微電子不負眾望┊↑▽,實現了G線正膠、I線正膠、KrF-248nm深紫外光刻膠的產業化△◇,加快了半導體事業國產化進程♂♂♂。

                                                              ( 郑重声明:本文版权归原作者所有,转载文章仅为传播更多信息之目的,如作者信息标记有误,请第一时间联系我们修改或删除,多谢。 )

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